X-21-5250

X-21-5250

トリメチルシロキシケイ酸50％とシクロペンタシロキサン50％の混合物。低強度の皮膜を形成。

X-21-5616

X-21-5616

トリメチルシロキシケイ酸60％とイソドデカン40％の混合物。低強度の皮膜を形成。